长春光机所投影物镜专利（长春光机所光学投影物镜）

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所属于国企么

不是企业，是研究所属于事业单位

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称“长春光机所”）始建于1952年，由中科院长春光机所（前身为始建于1952年的仪器馆和始建于1953年的机电研究所）与中科院长春物理所（前身为始建于1958年的吉林分院技术物理所）整合而成，是新中国最早开展光学学科、机械学科、光学工程技术以及发光学研究的研究所，主要从事发光学、应用光学、光学工程、精密机械与仪器的研发生产。

光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机？

光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）A *** L（中高端市场近乎垄断）比差距很大。

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上更大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到更先进的14nm光刻机就只剩下A *** L，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。

上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布， *** 是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能更好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。

合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现更高200nm的量产。

无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现更高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现更高200nm的量产。

先腾光电成立于2013年4月,已经实现更高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。

专利号 ZL02 8 17779.7 2002年申请，2009年获得

下面是专利的基本信息，包括摘要和 *** 项。

网上还可以下载到专利全文的pdf。

通过矩形形状的图像传感器拍摄全景图像的 ***

【申请号】：CN02817779.7

【申请日】：20020712

【公开/公告号】：CN1554036

【申请/专利权人】：6115187加拿大公司

【发明/设计人】：C·莫斯蒂尔;B·布兰

【地址】：加拿大魁北克省

【摘要】：本发明涉及一种用于拍摄数字全景图像的 *** ，通过相对于其光轴具有恒定视场角的鱼眼物镜将全景投影到图像传感器上，图像传感器的形状为矩形。根据本发明，提供鱼眼物镜以在不减小视野的情况下将变形全景图像(ID1)投影到图像传感器上，该变形全景图像与图像圆盘相比覆盖图像传感器上更多的像素。优点：改善有用图像区域中的清晰度，特别是改善数字缩放的质量。

【 *** 项】：1.用于拍摄数字全景图像的 *** ，包括以下步骤：通过相对于其光轴具有恒定视场角的鱼眼物镜将全景(PM)投影到图像传感器(16)上，图像传感器的形状为矩形， 其特征在于提供鱼眼物镜(15，30)以在不减小视野的情况下将变形全景图像(ID1，ID3)投影到图像传感器(16)上，该变形全景图像不是圆盘形状，并且与传统图像圆盘(4)相比覆盖图像传感器上更多的像素。

长春光机所的历史

长春光机所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称“长春光机所”）是由原中科院长春光学精密机械研究所和原中科院长春物理研究所于1999年7月整合组建而成，以知识创新和高技术创新为主线，从事基础研究、应用基础研究、工程技术研究和高新技术产业化的多学科综合性基地型研究所。

该所在以王大珩院士、徐叙容院士为代表的一批科学家的带领下，在应用光学、发光学、精密机械和光学工程技术等领域先后取得了1666项科研成果，研制出了中国之一台红宝石激光器、之一台大型经纬仪等十多项“中国之一”，向外输出2200多名各类人才，为中国的科技进步、经济发展和国防建设作出了一系列突出贡献，被誉为“中国光学的摇篮”。党和国家几代领导人都曾到该所视察。

长春光机所是中科院规模更大的研究所。现有在职职工1985人，包括院士4人，正高级科研人员135人，副高级科研人员294人。长春光机所是中科院博士生重点培养基地，设有博士点6个，硕士点8个，博士后流动站3个，在学研究生860人（其中博士生407人），在站博士后50人。长春光机所是中科院系统唯一通过军工质量保证体系考评和首家通过ISO9001质量体系认证的单位，同时又是中科院首批科技事业单位档案管理国家一级单位、全国“五一” 劳动奖状获得单位，主办《光学精密工程》、《发光学报》、《液晶与显示》等多种学术及信息刊物，中国光学文献数据库也建在这里。

长春光机所的科研工作分为基础研究、应用基础研究和工程技术研究三个层面，三者之间相互牵引、相互依托、相互促进，形成了完整的科研体系。基础研究工作以中科院激发态物理重点实验室为代表，在稀土发光、宽带II-VI族半导体发光、微腔激光、有机和无机薄膜电致发光等研究领域独具特色，达到国内或国际先进水平；应用基础研究以应用光学国家重点实验室为代表，以解决光学发展中的重大前沿基础技术为长远发展方向，围绕发光学、短波光学、空间光学等领域开展研究工作，取得了既有前瞻性和自主知识产权，又有广泛应用前景的创新成果；工程技术研究以空间光学研究部、国家光学机械质量监督检验中心、吉林省CAD工程技术中心等为代表，承担着大批国家重大科研项目和关键技术攻关任务，在空间光学领域的原理、 *** 探索和仪器装备的设计、加工、检测及系统集成等方面独占优势，为国家战略性需求提供了具有国际先进水平的大型光电系统和成套技术装备。近些年来，长春光机所在发展高科技产业方面也取得了喜人的成绩，总面积 2.12平方公里的中科院长春光电子产业园区已经基本建成，该园区功能齐全、结构合理、设施完备、环境优美，达到世界中等发达国家水平。

新世纪里，新一代长光人将秉承先辈的光荣传统，锐意创新、开拓进取，努力创造无

网曝国产光刻机技术获得巨大突破，长春光机的技术有什么特征？

长春中科院在光刻机技术上面获得巨大突破，目前来说芯片制造仍然是我们的卡脖子问题，其实短时间内难以突破完成自主，这也是事实，目前来说整个芯片制造生产相关技术，我们自己的国产化不到50%，也就是说目前半导体领域产业链，我们还是非常依赖进口技术设备。

很多人都说芯片这个最主要的问题在光刻机，这个其实也没有错，但是也是并不完全对，光刻机是半导体芯片领域的最重要的环节之一，我们目前来说芯片领域的问题其实并不只是卡在光刻机技术上面，很多人都认为我们把光刻机技术攻克了，我们就可以完全实现自主化，这个说法有点草率了。

光刻机是我们众多难题里面的一个，其实其他的难题还在努力解决，不说其他就说硅片平面打磨技术我们都还是靠进口设备，这些只是被光刻机技术难题掩盖了而已，绝大多数人根本不知道这些，不过光刻机技术的确是我们目前最头疼的问题，也是最想要快速解决的问题，光刻机技术的难点在于四大方面。

之一方面就是光源系统，第二方面就是光学镜头系统，第三点就是双工平台系统，第四就是EDA系统，这四个只要有一个做不好，那么基本上就是达不到想要的成果，荷兰阿麦斯光刻机之所以能独霸，原因就在于它的十万个零件有欧美日韩等几十个国家共同提供，也就是说几乎是世界上科技最发达国家都加入了进去，并不是单独一个国家的水平。

我们国家之所以短时间难以突破，原因还是在于我们一个跟几十个较量，所以难度可想而知是什么样子的，知道这些了以后就不会觉得我们的科学家不够努力了吧，毕竟全世界没有哪个国家能单独生产出来高端光刻机，美国不行日本不行德国不行英国不行法国同样也不行，意大利荷兰更不可能，我们正在做他们做不到的事情。

虽然说我们现在的更先进的二十八纳米技术光刻机还在实验室里面，并没有真正的下线进入市场，主要的原因其实还是在精密度以及稳定性方面迟迟没有获得突破，虽然说过去几年陆陆续续都报道出来一些关键技术的突破，现实却是这些技术突破还在实验室里面，并没有真正的运用到实践当中，离真正运用到光刻机上面还有不少的时间。

这次长春突破的技术是光刻机关键技术之一，这种技术就是物镜系统里面的光学投影物镜制造，这个技术其实就是最关键技术之一的镜头物镜折射，用德国科学家的说法就是，这个镜头的镜片平面的平整度非常光滑，打一个比方就是把镜片放大到面积100平方公里 平整度需要保持在十厘米误差以内的平整度，可想而知难度有多高。

这次长春光机突破的这个技术就是这个了，镜片上面的突破，可以说光刻机最难的难点之一已经解决的时间不会太久，加上我们国家的光源系统稳定性也是非常好的，所以现在的两个核心问题技术获得突破，这个是可喜可贺的，但是也要明白突破并不代表已经完成，只是说技术突破离实际运用还早。

以我们这些年了投入跟技术突破，我们的光刻机很多技术已经得到解决，但是想要真正达到更先进水平并且用到生产上面，短时间内几乎不可能，按照现在的技术突破速度，我们想要达到先进水平，十五年内很难，因为这是一个产业链，并不是单独的某一样设备问题，整个产业链技术的提升才会真正帮助我们在光刻机在半导体领域获得全面突破达到自主话先进水平，所以说单独技术突破值得高兴，但是还是要认清现实需要更加努力，全方位努力才可以，不能偏科。

如何看待长春光机所euv光刻机进展?

长春光机所EUV光刻机此次进展是国产光刻机光源的突破性进展，技术水平领先世界。

众所周知，EUV光刻机是目前制造高端芯片所需要的最关键设备，只有荷兰的A *** L公司能生产，这也是我国科技方面卡脖子的关键技术之一。

我国目标是要在2025年实现芯片自给率70%，要想实现这个目标，在高端EUV光刻机上实现突破是关键。

长春光机所EUV光刻机此次进展无疑给高端EUV光刻机的研究工作打了一剂强心针。

长春光机所科研成果：

2015年，研究所研制出中国之一台红宝石激光器、之一台大型电影经纬仪等多种先进设备仪器，创造了十几项“中国之一”。

先后参与了包括“两弹一星”、“载人航天工程”等多项国家重大工程项目，先后组建和援建了西安光机所、上海光机所、成都光电所、长春光机学院等10余家科研机构、大专院校和企业单位。

完成了一批国家重大任务，取得了以“神舟五号”、“神舟六号”有效载荷等为代表的一批重大科研成果。

成为中国航天光学遥感与测绘设备、机载光电平台及新一代航空遥感设备和靶场大型光测装备的主要研究、生产基地，在光电对抗、地基空间探测等领域具有影响力。

2016年11月11日，由中国科学院长春光学精密机械与物理研究所承担的国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统的研制”通过验收，并制造出世界更大面积中阶梯光栅。

这标志着我国大面积高精度光栅制造中的相关技术达到国际领先水平。

不仅打破了我国在该领域受制于人的局面，而且能帮助我国光谱仪器产业改变低端化现状，提升拓展国际市场的能力。